BA15-PSS：高純納米α-氧化鋁漿料在精密工程中的應用

發(fā)布日期：2025-04-30      瀏覽次數：224

1. 產品概述

BA15-PSS 是一款即用型 4N級(99.99%)高純α-氧化鋁(α-Al?O?)水性漿料，專為 化學機械拋光(CMP)、精密涂層、高性能過濾及先進陶瓷 等領域設計。其納米級單峰粒度分布(D50=0.11µm) 和 堿性水基體系(pH 9-10)，使其在半導體、電子元件及結構材料制造中表現出的工藝適應性和性能穩(wěn)定性。

2. 關鍵特性與優(yōu)勢

2.1 超高純度(4N級)

純度達 99.99%，金屬雜質(Na、K、Fe等)含量極低，避免半導體制造中的電學性能劣化或陶瓷燒結過程中的異常晶粒生長。

2.2 α相氧化鋁的穩(wěn)定性

α-Al?O? 是氧化鋁穩(wěn)定的晶相，具備：

高硬度(莫氏硬度9)，適用于耐磨涂層和切削陶瓷。

優(yōu)異的熱穩(wěn)定性(熔點2050℃)，適合高溫燒結工藝。

低熱膨脹系數，減少涂層或陶瓷器件在熱循環(huán)中的應力開裂風險。

2.3 精密控制的納米粒度

D50=0.11µm，采用 Sedigraph 驗證的窄單峰分布，確保：

CMP拋光 中減少表面劃傷，提升平坦化效率。

陶瓷燒結 時顆粒堆積均勻，提高致密度(>99%理論密度)。

涂層工藝 中形成無缺陷的薄膜，增強結合強度。

2.4 環(huán)保水性配方

無有機溶劑，符合 RoHS/REACH 法規(guī)，適用于綠色制造。

50%固含量 優(yōu)化了流動性與成膜效率，1.6g/cm³ 密度便于精確計量。

3. 主要應用領域

3.1 化學機械拋光(CMP)

適用對象：硅晶圓、藍寶石襯底、光學玻璃等。

優(yōu)勢：

高純度避免金屬污染，提升芯片良率。

納米顆粒實現 亞納米級表面粗糙度(Ra<0.5nm)，滿足先進制程(如3nm節(jié)點)需求。

3.2 高性能過濾材料

應用：制備多孔陶瓷濾芯，用于半導體超純水、高溫氣體除塵等。

機制：均勻粒徑形成 0.1–1µm可控孔徑，過濾效率>99.9%。

3.3 耐磨與防護涂層

典型基材：金屬模具、航空發(fā)動機部件、化工設備。

性能提升：

耐磨性：HV>2000，壽命延長3–5倍。

耐腐蝕性：耐受酸堿、高溫氧化環(huán)境。

3.4 先進技術陶瓷

陶瓷類型	應用案例	BA15-PSS 的貢獻
電子陶瓷	MLCC介質、陶瓷基板	高純度保障介電損耗<0.001
結構陶瓷	陶瓷刀具、軸承、噴嘴	α相高硬度提升抗磨損性能

4. 工藝適應性

燒結制度：≥1600℃ 可致密化，適合常壓/熱壓燒結。

涂覆工藝：兼容噴涂、旋涂、浸漬，燒結后膜厚可控（1–50µm）。

CMP參數：推薦拋光壓力2–5 psi，搭配氧化劑（如H?O?）使用。

5. 市場定位與競爭力

BA15-PSS 憑借 “高純+納米α相” 組合，在制造領域具備不可替代性：

對比普通氧化鋁漿料：更窄的粒度分布（D50<0.2µm vs. 工業(yè)級>0.5µm）和4N純度，滿足半導體、光學級應用需求。

對比有機溶劑型漿料：水性體系更環(huán)保，減少VOCs排放，符合ESG趨勢。

6. 結論

BA15-PSS 是面向 高精度表面處理、高性能陶瓷及嚴苛環(huán)境防護涂層 的理想材料，其 純度、粒度控制及α相穩(wěn)定性 可為半導體、新能源、航空航天等領域提供關鍵材料解決方案。

目標客戶：

CMP耗材供應商

精密陶瓷制造商

高涂層服務商