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    日本medas陶瓷和半導(dǎo)體氣體處理裝置KY-05 氫氣發(fā)生器

    訪問(wèn)次數(shù):1604

    更新日期:2024-03-23

    簡(jiǎn)要描述:

    日本medas陶瓷和半導(dǎo)體氣體處理裝置KY-05
    適用于處理惡臭物質(zhì)、有機(jī)溶劑、陶瓷和半導(dǎo)體氣體,環(huán)境凈化,無(wú)二次污染。

    日本medas陶瓷和半導(dǎo)體氣體處理裝置KY-05 氫氣發(fā)生器
    產(chǎn)地進(jìn)口

    日本medas陶瓷和半導(dǎo)體氣體處理裝置KY-05

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    適用于處理惡臭物質(zhì)、有機(jī)溶劑、陶瓷和半導(dǎo)體氣體,環(huán)境凈化,無(wú)二次污染。

    氣體處理有機(jī)化合物(易燃物質(zhì))的一種方法是使用催化劑的氧化分解(催化氧化)方法。 當(dāng)工藝氣體在空氣中燃燒時(shí),它可以全部氧化而不會(huì)引起火焰。
    當(dāng)直接處理的氣體在火焰中燃燒時(shí),處理氣體將其保持在600°C~800°C,除非加熱0.3秒~0.5秒或更長(zhǎng)時(shí)間,否則不會(huì)全部氧化,但在催化劑的情況下,溫度也低至200°C~350°C,因此可以應(yīng)用電加熱器,與活性炭吸附和化學(xué)吸收法(洗滌器)相比,處理效率也非常高。 即使是在含有有害有機(jī)金屬化合物的半禪體生產(chǎn)過(guò)程中排放的氣體,如果采用本公司的半致密廢氣處理系統(tǒng),也可以在催化劑表面生成常規(guī)方法無(wú)法處理的氣體作為化合物,排出而不排放出系統(tǒng)。

    產(chǎn)品特點(diǎn)

    氣體處理有機(jī)化合物(易燃物質(zhì))的一種方法是使用催化劑的氧化分解(催化氧化)方法。 當(dāng)工藝氣體在空氣中燃燒時(shí),它可以全部氧化而不會(huì)引起火焰。
    當(dāng)直接處理的氣體在火焰中燃燒時(shí),處理氣體將其保持在600°C~800°C,除非加熱0.3秒~0.5秒或更長(zhǎng)時(shí)間,否則不會(huì)全部氧化,但在催化劑的情況下,溫度也低至200°C~350°C,因此可以應(yīng)用電加熱器,與活性炭吸附和化學(xué)吸收法(洗滌器)相比,處理效率也非常高。 即使是在含有有害有機(jī)金屬化合物的半禪體生產(chǎn)過(guò)程中排放的氣體,如果采用本公司的半致密廢氣處理系統(tǒng),也可以在催化劑表面生成常規(guī)方法無(wú)法處理的氣體作為化合物,排出而不排放出系統(tǒng)。


    氣體處理有機(jī)化合物(易燃物質(zhì))的一種方法是使用催化劑的氧化分解(催化氧化)方法。 當(dāng)工藝氣體在空氣中燃燒時(shí),它可以全部氧化而不會(huì)引起火焰。
    當(dāng)直接處理的氣體在火焰中燃燒時(shí),處理氣體將其保持在600°C~800°C,除非加熱0.3秒~0.5秒或更長(zhǎng)時(shí)間,否則不會(huì)全部氧化,但在催化劑的情況下,溫度也低至200°C~350°C,因此可以應(yīng)用電加熱器,與活性炭吸附和化學(xué)吸收法(洗滌器)相比,處理效率也非常高。 即使是在含有有害有機(jī)金屬化合物的半禪體生產(chǎn)過(guò)程中排放的氣體,如果采用本公司的半致密廢氣處理系統(tǒng),也可以在催化劑表面生成常規(guī)方法無(wú)法處理的氣體作為化合物,排出而不排放出系統(tǒng)。

    日本medas陶瓷和半導(dǎo)體氣體處理裝置KY-05

    產(chǎn)品用途

    氣體處理有機(jī)化合物(易燃物質(zhì))的一種方法是使用催化劑的氧化分解(催化氧化)方法。 當(dāng)工藝氣體在空氣中燃燒時(shí),它可以全部氧化而不會(huì)引起火焰。
    當(dāng)直接處理的氣體在火焰中燃燒時(shí),處理氣體將其保持在600°C~800°C,除非加熱0.3秒~0.5秒或更長(zhǎng)時(shí)間,否則不會(huì)全部氧化,但在催化劑的情況下,溫度也低至200°C~350°C,因此可以應(yīng)用電加熱器,與活性炭吸附和化學(xué)吸收法(洗滌器)相比,處理效率也非常高。 即使是在含有有害有機(jī)金屬化合物的半禪體生產(chǎn)過(guò)程中排放的氣體,如果采用本公司的半致密廢氣處理系統(tǒng),也可以在催化劑表面生成常規(guī)方法無(wú)法處理的氣體作為化合物,排出而不排放出系統(tǒng)。



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