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    thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器

    訪問次數(shù):1625

    更新日期:2024-03-23

    簡(jiǎn)要描述:

    thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器
    CVD法是一種穩(wěn)定的技術(shù),已經(jīng)建立了多種用途,它是未來大規(guī)模合成石墨烯和碳納米管的最現(xiàn)實(shí)的方法,因此我們?cè)谶@臺(tái)機(jī)器中采用了CVD方法。 制造商Moorfield與英國國家研究所合作,多次驗(yàn)證了這種薄膜沉積實(shí)驗(yàn)裝置。

    thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器
    品牌其他品牌燃料電加熱鍋爐
    結(jié)構(gòu)形式立式出口壓力高壓

    thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器

    image.png

    ? 型號(hào)。 納米CVD-8G(用于石墨烯合成)
    ?型號(hào)。 納米CVD-8N(用于碳納米管)


    每批僅需 1 分鐘,可輕松合成高質(zhì)量石墨烯和碳納米管

    CVD(化學(xué)氣相沉積)

    CVD法是一種穩(wěn)定的技術(shù),已經(jīng)建立了多種用途,它是未來大規(guī)模合成石墨烯和碳納米管的最現(xiàn)實(shí)的方法,因此我們?cè)谶@臺(tái)機(jī)器中采用了CVD方法。 制造商Moorfield與英國國家研究所合作,多次驗(yàn)證了這種薄膜沉積實(shí)驗(yàn)裝置。 在與研究機(jī)構(gòu)的合作下,已經(jīng)驗(yàn)證了使用拉曼光譜,SEM,AFM等分析數(shù)據(jù)可以制備高質(zhì)量的石墨烯和CNT樣品。 

    冷壁CVD

    采用冷壁/高溫樣品加熱臺(tái)(熱板),反應(yīng)快,重現(xiàn)性好。 設(shè)備小型化,加工時(shí)間縮短,可操作性強(qiáng),可創(chuàng)建并存儲(chǔ)30種合成配方。 除了標(biāo)準(zhǔn)系統(tǒng)配置外,還可以根據(jù)要求定制設(shè)備配置。 nanoCVD系統(tǒng)是一種實(shí)驗(yàn)裝置,盡管體積小,但具有為基礎(chǔ)研究和開發(fā)領(lǐng)域做出貢獻(xiàn)的無限潛力。

    特征

    • 無需使用大型設(shè)備即可輕松進(jìn)行石墨烯碳納米管 (SWNT) 沉積實(shí)驗(yàn)

    • 1批次只需30分鐘!

    • 冷壁式高效高精度過程控制

    • 快速升溫:室溫→1100°C約3分鐘

    • 高性能機(jī)器,具有高精度的溫度流量控制和出色的可重復(fù)性

    • 操作簡(jiǎn)單! 通過 5 英寸觸摸屏進(jìn)行操作和配方管理

    • 最多可創(chuàng)建和保存 30 個(gè)配方和 30 步合成程序。

    • 標(biāo)配專用軟件,數(shù)據(jù)記錄為輸出PC上的CSV文件

    • USB電纜連接,PC端的配方創(chuàng)建→上傳到設(shè)備

     thermocera納米CVD石墨烯/碳納米管合成器

    主要規(guī)格

    A. 主要規(guī)格

    1. 反應(yīng)室

    不銹鋼SUS304泄漏檢查

    2. 加熱階段

    陶瓷

    3. 兼容的樣本量

    20 x 40毫米

    4. 加熱加熱器

    高純石墨加熱器MAX1050°C

    5. 溫度控制

    包括K型熱電偶標(biāo)準(zhǔn)(安裝在加熱臺(tái)下方)

     

    B. 過程控制設(shè)備規(guī)格

    1. 氣體控制

    質(zhì)量流量控制器 x 3 (Ar, H2, CH4)

    2. 壓力控制

    20托爾·

    3. 真空抽真空

    包括愛德華茲旋轉(zhuǎn)泵RV3(3?/小時(shí))

    4. 操作面板

    前置式 5 英寸觸摸屏 (歐姆龍)

    5. 風(fēng)冷

    通過冷卻風(fēng)扇對(duì)外殼進(jìn)行內(nèi)部冷卻

    6. 控制系統(tǒng)

    PLC自動(dòng)過程控制

     

    C. 軟件(包括標(biāo)準(zhǔn))

    1. 納米CVD軟件

    包括標(biāo)準(zhǔn)(安裝石墨烯的標(biāo)準(zhǔn)程序)

    2. 界面

    USB 2.0 連接

    3. 設(shè)置次數(shù)

    最多可以創(chuàng)建和保存 30 個(gè)配方和 30 個(gè)步驟

     

    D. 氣體引入連接規(guī)格

    1. 工藝氣體

    2 x 4/1 英寸世偉洛克卡套管連接,用于 Ar、H4、CH3

    2. 載氣

    N2 或 AR φ6mm 推鎖管連接 x 1

     

    E. 安全裝置

    1. 過熱

    由安裝在加熱臺(tái)上的熱電偶控制

    2. 外殼內(nèi)部過熱

    從內(nèi)部溫度開關(guān)

    3. 氣壓異常

    從質(zhì)量流量控制器

    4. 真空減少

    從真空傳感器

     

    F. 公用事業(yè)

    權(quán)力

    AC200V 單相 50/60Hz 13A

    1. 工藝氣體壓力

    最大 30psi 200sccm

    2. 載氣壓力

    60-80磅/平方英寸

     

    G. 尺寸和重量

    1. 尺寸

    405毫米(寬) x 415毫米(深) x 280毫米(高)

    2. 重量

    約27公斤



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